Sputtering apparatus

스퍼터링 장치

Abstract

Provided is a sputtering apparatus having an improved efficiency. The sputtering apparatus comprises: an unwinding unit supplying a sheet; a sputtering unit forming a film on the sheet; and a winding unit receiving the sheet from the sputtering unit. The sputtering unit includes: a first target, a second target, magnet field generating units, and a fixing frame. The second target faces the first target and is separated in a first direction. The magnet generating units are arranged on surfaces of the first target and the second target. The fixing frame surrounds side surfaces of a space between the first target and the second target and is arranged to be rotated on an axle extending in the first direction. The sputtering apparatus improves efficiency by using the entire side surfaces of the space between the first and second targets.
본 발명은 향상된 효율 갖는 스퍼터링 장치를 제공한다. 상기 스퍼터링 장치는 시트를 공급하는 권출 유닛, 상기 시트에 막을 형성하는 스퍼터링 유닛 및 상기 스퍼터링 유닛으로부터 상기 시트를 공급받는 권취 유닛을 포함한다. 상기 스퍼터링 유닛은 제1 타겟, 제2 타겟, 자기장 발생부들 및 고정틀을 포함한다. 제2 타겟은 상기 제1 타겟에 대향하며 제1 방향을 따라 이격된다. 상기 자기장 발생부들은 상기 제1 타겟 및 상기 제2 타겟의 일면 상에 각기 배치된다. 상기 고정틀은 상기 제1 타겟 및 상기 제2 타겟 사이의 공간의 측면을 둘러싸며, 상기 제1 방향을 따라 연장된 축을 중심으로 회전 가능하도록 배치된다. 상기 스퍼터링 장치는 상기 제1 타겟 및 상기 제2 타겟 사이의 공간의 측면을 전체적으로 이용할 수 있으므로 효율성이 향상된다.

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